如條項13之方法，其進一步包含在該感應加熱期間提供一惰性氣體之一流，該流被引導至該玻璃毛細管。 如任一前述條項之方法，其中加熱該金屬配件之步驟包含在一惰性氛圍或一相對真空中加熱該金屬配件。 如任一前述條項之方法，其中將該玻璃毛細管安置於該金屬配件之該通孔中之步驟包含將該玻璃毛細管安置於該通孔中，使得該玻璃毛細管自該通孔之兩個端突起。 如條項17之方法，其中自該金屬配件突起的該玻璃毛細管之至少一個部分係藉由以下各者中之至少一者被移除：砂磨、研磨、拋光及/或切割。 如條項19之噴嘴，其中該通孔之該形狀包括一均一圓柱形區段及/或一截頭錐形區段。 本發明揭示一種製造用於一雷射產生電漿輻射源之一小滴產生器之一噴嘴的方法。
照明系統IL經組態以在EUV輻射光束B入射於圖案化器件MA上之前調節EUV輻射光束B。 另外，照明系統IL可包括琢面化場鏡面器件10及琢面化光瞳鏡面器件11。 琢面化場鏡面器件10及琢面化光瞳鏡面器件11一起向EUV輻射光束B提供所要橫截面形狀及所要強度分佈。 除了琢面化場鏡面器件10及琢面化光瞳鏡面器件11以外或代替琢面化場鏡面器件10及琢面化光瞳鏡面器件11，照明系統IL亦可包括其他鏡面或器件。 圖2展示包含輻射源SO及微影裝置LA之微影系統。 輻射源SO經組態以產生EUV輻射光束B並將EUV輻射光束B供應至微影裝置LA。
該密封件可有利地為密閉式密封件，例如氣密密封件。 將內壓力施加至玻璃毛細管210之步驟可包含密封玻璃毛細管210之第一開口225或第二開口230之步驟。 在圖3b之所繪示實施例中，用帽250密封第二開口230。 在如此調節之後，EUV輻射光束B與圖案化器件MA相互作用。 由於此相互作用，產生了經圖案化EUV輻射光束B’。
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製造用於小滴產生器之噴嘴200之方法中的第一步驟可包含將玻璃毛細管210安置於金屬配件220之通孔235、240中。 應瞭解，提供金屬氧化物層會適用於用以形成玻璃至金屬密封件之任何金屬。 舉例而言，包含鉬、鎢、鉭及/或諸如鎳鈷鐵合金之金屬合金中之任一者之金屬配件220可包含金屬氧化物層。
替代地(或另外)，可由如上文所描述之金屬配件220加熱玻璃毛細管210。 在一些實施例中，金屬配件220可包含例如鋁及/或鉑。 在一些實施例中，金屬配件220可包含金屬合金，諸如不鏽鋼或其類似者。 來自電漿之EUV輻射係由收集器5收集及聚焦。
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在一個實施例中，玻璃毛細管210內之壓力可被設定為約0.5巴，但在其他實施例中，玻璃毛細管210內之壓力可被設定為或增加至介於0.1巴與10巴之間，或更高。 金屬配件220可被至少加熱至玻璃毛細管210之工作溫度，例如玻璃毛細管210變得韌曲之溫度。 較佳地，金屬配件220不被加熱至將會使玻璃毛細管210或金屬配件220在其自身重量下過度地變形之溫度。 在各種實施例中，玻璃毛細管210之外徑略微小於通孔235之內徑。 因而，可將玻璃毛細管210插入至通孔235中。
舉例而言，在噴嘴之製造期間及/或在使用中，若玻璃毛細管210之CTE高於金屬配件220，則在噴嘴200之冷卻期間，玻璃毛細管210將比金屬配件220收縮更快地收縮。 玻璃毛細管210與金屬配件220之間的此類收縮速率差異可不利於玻璃至金屬密封件之完整性。 亦即，玻璃毛細管210與金屬配件220之間的此類收縮速率差異可使玻璃毛細管與金屬配件220分離。 因此，有益的是使玻璃毛細管210的收縮速率小於或等於金屬配件220之收縮速率。
應注意，僅出於實例之目的，已在未按比例繪製之圖3a至圖3d中誇示了該角度。 在落入本發明之範疇內之其他實施例中，為實質上截頭錐形的通孔之部分240的側壁之角度相對於由通孔235、240之中心界定之縱向軸線X可介於大於5度或小於2度之間。 如上文所描述，燃料發射器3可包含噴嘴200，該噴嘴經組態以沿著朝向電漿形成區4之軌跡引導燃料，例如呈小滴形式之錫。 相對真空，亦即，在充分低於大氣壓力之壓力下之少量氣體(例如氫氣)，可提供於輻射源SO中、提供於照明系統IL中及/或提供於投影系統PS中。 施加該壓力可包含將一外壓力施加至該玻璃毛細管。 將一外壓力施加至該玻璃毛細管可包含將反向壓縮力施加至以下各者中之至少一者：自該通孔延伸的該玻璃毛細管之部分；及/或該玻璃毛細管之一或兩個端。
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可將該氛圍之溫度控制或維持為處於相對恆定位準。 有益地，藉由將惰性氛圍提供為氣體流，可最小化惰性氛圍之加熱。 有益地，氣體流可對曝露於氣體流的玻璃毛細管210之部分產生冷卻效應。 因此，自金屬配件220延伸或突起的玻璃毛細管210之一或多個部分的非想要的變形可受限制。
雷射系統1、輻射源SO及光束遞送系統可一起被視為輻射系統。 已展示，可在使用中由順應式套接管130維持之最大壓力顯著地受限制。 因而，套接管130可經受除氣，例如H2O除氣，此可在使用中污染由玻璃毛細管110發射之燃料。
微影裝置為經建構以將所要圖案施加至基板上之機器。 微影裝置可例如將圖案自圖案化器件(例如遮罩)投影至設置於基板上之諸如光阻或簡單地為抗蝕劑之輻射敏感材料層上。 操作溫度範圍可取決於由噴嘴200發射或噴出之燃料。 舉例而言，作為燃料之液體錫之操作溫度範圍可為約300 K至530 K。
更確切而言，在加熱之前，玻璃毛細管210為筆直，其具有恆定外徑，且並不符合部分240或通孔235之形狀，如圖3a所展示。 儘管上文已特定地參考在用於雷射產生電漿輻射源之小滴產生器之內容背景中對本發明之實施例之使用，但應瞭解，根據所主張及所描述之方法製造之噴嘴可適用於及/或適合用於各種其他應用中。 舉例而言，此類噴嘴可大體上適用於任何流體輸送應用，且尤其是適用於待輸送之流體處於壓力下的任何流體輸送應用。 泵或壓縮機可以可連通方式耦接至玻璃毛細管210以將氣體泵送至玻璃毛細管之第一端225中。
如條項1至3中任一項之方法，其中施加該壓力之步驟包含藉由將反向壓縮力施加至以下各者中之至少一者而將一外壓力施加至該玻璃毛細管： 自該通孔延伸的該玻璃毛細管之部分；及 該玻璃毛細管之一或兩個端。 如條項5之方法，其中該等反向壓縮力係沿著該玻璃毛細管之一縱向方向施加。 如條項5之方法，其進一步包含在施加該外壓力之前將一剛性元件插入至該玻璃毛細管中之步驟。 如任一前述條項之方法，其中在加熱該金屬配件期間及/或之後將該壓力施加至該玻璃毛細管。
玻璃毛細管110可耦接至可為燃料發射器之組件之配件120，或可耦接至燃料發射器。 為了將圖案投影至基板上，微影裝置可使用電磁輻射。 此輻射之波長判定可形成於基板上之特徵之最小大小。 相比於使用例如具有大於4 nm至20 nm之波長之輻射的微影裝置，使用具有例如6.7 nm或13.5 nm之在4 nm至20 nm範圍內之波長之極紫外線輻射的微影裝置可用以在基板上形成較小特徵。
- 有益地，圖3a至圖3d所展示之實例實施例之截頭錐形通孔在使用中提供玻璃毛細管210與金屬配件220之間的增強型密封。
- 因此，特別有益的是在玻璃毛細管210與金屬配件220之間形成玻璃至金屬密封件，該玻璃至金屬密封件在其橫跨整個操作溫度範圍之效能方面係相對溫度不變的。
- 小滴產生器噴嘴 本發明係關於一種用於雷射產生電漿輻射源之小滴產生器之噴嘴，且尤其係關於一種用於製造該噴嘴之方法。
- 因而，力為壓縮力，其用來壓縮玻璃毛細管210。
由燃料施加之此類壓力可在一定程度上進一步使玻璃毛細管210膨脹，因此相抵於金屬配件220按壓玻璃毛細管210。 因此，玻璃毛細管210與金屬配件220之間的玻璃至金屬密封件可至少在一定程度上形成自激密封件，例如歸因於在使用中施加至玻璃毛細管210之內表面之壓力而改良之密封件。 舉例而言，包含鉬之金屬配件可具有約5.5 ppm/K之CTE。 因而，玻璃毛細管之CTE之預定義範圍可為例如+/- 0.5 ppm/K。 各種硼矽酸鹽或鋁矽酸鹽玻璃包含在+/- 0.5 ppm/K內與鉬匹配之CTE。
需要提供在小滴產生器之操作期間經受溫度及壓力變化之組件之間具有可靠、穩定及高效能密封件之噴嘴總成，且亦需要提供用以製造此類噴嘴總成之方式。 此外，需要提供在使用中不易於實質上變形且在使用中曝露於諸如液體錫之流體時為相對惰性之密封件。 術語「玻璃至金屬」密封件係指玻璃與金屬之間的密封件，例如氣密密封件，其中金屬被認作包含金屬、金屬合金及/或金屬氧化物。 亦即，術語「玻璃至金屬密封件」應被理解為包含玻璃與金屬之間的密封件，其中金屬可包含氧化物層。 該方法可包含使玻璃毛細管210及/或金屬配件220退火之步驟。 玻璃毛細管210之退火所需之特定溫度及/或加熱及/或冷卻速率可取決於玻璃之特定玻璃類型及/或組成物。
舉例而言，金屬配件220可安置於護罩、容器、腔室、圍封體或其類似者內，且諸如空氣之周圍氣體可自護罩、容器、腔室或圍封體被排出或以其他方式泵送或激勵以達成相對真空，例如部分真空或低壓環境。 有益地，例如部分真空或低壓環境之相對真空可防止玻璃毛細管210或金屬配件220之一或多個表面氧化。 因此，在相對真空或低壓環境中加熱金屬配件220可防止或至少最小化此類氧化。 用於製造用於小滴產生器之噴嘴200之另一步驟可包含加熱金屬配件220或加熱金屬配件220及玻璃毛細管210。 金屬配件220及玻璃毛細管210之加熱可包含將金屬配件220及玻璃毛細管210安置於溫度控制烘箱或腔室中。
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